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MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：33

题名/责任者:
走进中国科技殿堂/高奇等编著
出版发行项:
济南:山东大学出版社,2014
ISBN及定价:
978-7-5607-5064-4/CNY480.00(全6册)
载体形态项:
338页:图;24cm
个人责任者:
高奇 编著
学科主题:
科学技术-技术史-中国
中图法分类号:
N092
题名责任附注:
编著者还有：楼蔚文、韩卿、姚丽萍、耿爱英、刘旭东等9人
提要文摘附注:
本书以史为鉴，纵横方圆神州，力图再现历代王朝治乱兴衰、成败得失的壮丽画卷，以及风流人物经邦治国、运筹帷幄、自强不息，前仆后继的风采。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置
N092/43 501478   第一借阅室（综合）     可借 第一借阅室（综合）
N092/43 501477   第一借阅室（综合）     可借 第一借阅室（综合）
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